光敏印章材料
的有关信息介绍如下：
光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的，它是由一种特殊的化工合成材料，通过专用设备瞬间发出强光辐射，使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。
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光敏印章材料
Simone
发布于 2026-10-10 13:20:25
940 阅读
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